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中兴新专利曝光 采用上下双刘海全面屏设计

2018年5月4日 20:35  IT168  

近日,中国国家知识产权局曝光了一组中兴手机的新专利图片,从图中我们可以看到,该机采用了上下双刘海的设计,这在全面屏手机领域,这种设计理念还尚属首次。

从专利图中,我们可以看到,该机的上刘海为前置摄像头,下刘海为前置指纹解锁,其余部分几乎全为屏幕部分,手机后面我们看到,该机采用了双摄的设计,但是在背后依然有类似指纹识别的部分,采用前置指纹识别之后,还有后置指纹识别,这也是我们之前没见到过的。

  此次为中兴第二次提交这种专利的设计,预计该设计应该将会用在中兴的新款旗舰机上。由于该机的设计前卫,相信中兴对其的定价也不会太低,其他更多的细节目前还不得而知,更多详情请大家关注我们的后续报道。

编 辑:章芳
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